시노펙스, MB필터 제조 방법 및 장치 관련 특허 등록

■ 시노펙스, 관형 MB필터의 ‘다층구조
형성을 위한 제조방식’과 관련된 특허 결정 통보

■ 30년간 MB필터 제조공급, 국내
최초로 MB방식의 Absolute 필터관련 독점권한 확보

■ 마스크용 나노급 초극세사 MB필터 이달 중 시험 생산하고 대량공급 체제 구축할 예정

시노펙스(025320)가 MB필터 제조와 관련된 방법 및 장치에 관련된 특허를
받았다.

시노펙스는 ‘관형필터를 멜트블로운(MB,
Melt-Blown) 방식으로 제조하는 방법 및 장치 ? 다층 구조형성을 위한 제조방식’과 관련하여 특허청으로부터 1일자로 특허권이 결정되었음을 통보 받고
등록 절차를 밟고 있다고 4일 밝혔다.

시노펙스는 지난 2016년 국내 최초이자 세계 두 번째로 Absolute 즉, 절대여과 등급의 심층여과 필터 (Melt-Blown Depth Absolute Filter) 개발에 성공한 이래 지속적으로 업그레이드를 추진해왔다. 그 결과 지난 2017년 10월에는
기공사이즈 면에서 세계 최고 수준인 0.2㎛에 이르고 성능에서도 동등 수준 이상임을 확인, 이와 관련된 독자적인 제조 방법 및 장치에 관련된 특허를 진행해 왔다.

그간 일본, 중국 등 세계 각국에서 도전했음에도 불구하고 기공의 사이즈, 유량 및 필터 수명 등 전반적인 제품 성능이 기대에 미치지 못했다. 하지만
시노펙스는 30년 이상 MB필터를 제조하여 반도체 CMP(Chemical Mechanical Polishing) 공정 및 관련 슬러리
제조사 등을 대상으로 공급해오며 쌓아온 기술과 노하우를 바탕으로 초미세 Fiber의 개발과 전용 장비
구축을 통해 관련된 필터 제조 기술을 향상시켰다.

MB필터 기술 개발과 관련하여, 시노펙스는 지난 4월 산업통상자원부 산하 한국산업기술평가관리원으로부터 ‘반도체 공정
고효율화 CMP 슬러리 정제용 필터 소재 및 고기능성 제품화 기술 개발’ 프로젝트 수행 기업으로 선정되기도 했다. 이는 지난해부터 추진되고
있는 소재부품기술개발 사업분야의 프로젝트로서 오는 2024년 연말까지 CMP 슬러리 정제용 필터 소재 및 제품에 대해 ‘포집 효율, 기공 유지 및 수명 향상’ 등의 성능개선을 목표로 진행된다.

한편, 지난 3월 일본 등으로부터
전량 수입에 의존할 수 밖에 없던 고성능 헤파필터를 대체하여 국산화함과 동시에 나노급의 초극세사 MB필터
공급을 위해 추진해온 신규 라인 증설이 마무리 단계에 있어, 이달 중으로는 시험생산하고 대량공급 체제를
구축해 나갈 예정이다.